平面刻化衍射光栅—HGR01系列
制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择，通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整，可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精确路线折回，并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精确控制。
对刻划要有一系列的测试，对光栅的效率，刻线外形和杂散光要进行检查。每次测试后，可能需要一个小的机械调整。为了优化刻线外形以达到特定的光学特性，可能需要一周或者更长时间进行重复测试。经过彻底测试后，才能在一块大的基板上刻划原始光栅。原始光栅非常昂贵，所以在复制光栅开发出来之前，光栅只能有限使用。
* 如无特殊备注，单位默认为mm
| 光栅基片材料 | 浮法玻璃 | 效率 | 60%-80%@闪耀波长 |
| 尺寸公差 | ±0.5mm | 表面光洁度 | 60-40 |
| 厚度公差 | ±0.5mm | 有效孔径 | 90% |
| 损伤阈值 | 350mJ/cm²@200ns脉冲激光40W/cm²连续激光 | ||
使用注意事项：光栅的表面极易损坏，故拿取时只能接触边缘；最好佩戴乳胶手套或指套来防止手指上的脏污接触光栅表面；光栅上的灰尘不能用接触式的方法去清洁；光栅表面可能会存在不影响性能的轻微表面瑕疵，而该光栅仍是合格品。
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